一葉ウエハCVD酸化膜反応器中の下流での粒子モニタ

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J-GLOBAL ID：200902002038062080 整理番号：92A0057462

Monitoring downstream particles in a single-wafer CVD oxide reactor.

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巻： 9 号： 11 ページ： 17-19,56 発行年： 1991年11月
JST資料番号： D0679B ISSN： 0738-713X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

継続的に実時間で異物粒子計測を実施することは,ウエハ処理時の...

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固体デバイス材料

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