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文献J-GLOBAL ID:200902002059739179整理番号:90A0110792

Semiconductor interlevel shorts caused by hillock formation in Al-Cu metallization.

Al‐Cuメタライゼーションでのヒルロック形成による半導体層間短絡

著者:PUTTLITZ A P(IBM General Technology Division, VT)、RYAN J G(IBM General Technology Division, VT)、SULLIVAN T D(IBM General Technology Division, VT)
資料名:Electron Compon Conf 巻:39th ページ:222-228
発行年:1989年
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