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J-GLOBAL ID：200902015491610165   整理番号：81A0081944

含硫黄脱離基を活用する新有機合成

著者 (2件)： 藤田栄一 (京大化学研) ,  長尾善光 (京大化学研)
資料名： 有機合成化学協会誌  (Journal of Synthetic Organic Chemistry, Japan)
巻： 38  号： 12  ページ： 1176-1195  発行年： 1980年12月 
JST資料番号： F0383A  ISSN： 0037-9980  CODEN： YGKKAE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 初めに,求電子性チオフィルの助けによるタイプ1のX-S結合切...

シソーラス用語： 有機硫黄化合物 ,...

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分類 (1件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M)

引用文献 (74件)：

• 1a) S.Patai (Ed.), “The Chemistry of the Thiol Group Parts 1, 2” in “The Chemistry of Functional Groups”, John Wiley & Sons, New York (1974)
• b) S.Oae (Ed.), “Organic Chemistry of Sulfur”, Plenum Press, New York (1977)
• c) D.R. Hogg, “Organic Compounds of Sulfur, Selenium, and Tellurium Vol. 5”, The Chemical Society, London (1979)
• d) B.-T. Gröbel, D. Seebach, Synthesis, 357 (1977)
• e) L. Field, ibid., 713 (1978),

タイトルに関連する用語 (4件)： 硫黄 ,  脱離基 ,  活用 ,  有機合成