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J-GLOBAL ID：200902015497648571   整理番号：90A0152838

Si-Ti-C-Cl-H系におけるSiCに関する二相蒸着領域の熱力学的計算

Thermodynamic calculation of the two phased deposition domains with SiC in the Si-Ti-C-Cl-H chemical system.

著者 (3件)： TOUANEN M (I.M.P.-C.N.R.S., Perpignan, FRA) ,  TEYSSANDIER F (I.M.P.-C.N.R.S., Perpignan, FRA) ,  DUCARROIR M (I.M.P.-C.N.R.S., Perpignan, FRA)
資料名： Journal de Physique. Colloque  (Journal de Physique. Colloque)
巻： 50  号： C5 Suppl 5  ページ： C5-105-C5-113  発行年： 1989年05月 
JST資料番号： A0743B  ISSN： 0449-1947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： フランス (FRA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (7件)： Si ,  Ti ,  Cl ,  SiC ,  蒸着 ,  熱力学 ,  計算