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文献J-GLOBAL ID:200902015503700726整理番号:87A0494850

X-ray photoelectron spectroscopy studies on the oxidation behavior of CoNi thin films.

CoNi薄膜の酸化挙動に関するX線光電子分光研究

著者:MAJUMDAR D(Eastman Kodak Co., NY, USA)、SPAHN R G(Eastman Kodak Co., NY, USA)、GAU J S(Eastman Kodak Co., NY, USA)
資料名:J Electrochem Soc 巻:134 号:7 ページ:1825-1829
発行年:1987年07月
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