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J-GLOBAL ID：200902015503898496   整理番号：87A0077683

プラズマプロセスに関する高周波放電における空間依存励起率と電力デポジションのシミュレーション

Simulation of spatially dependent excitation rates and power deposition in RF discharges for plasma processing.

著者 (3件)： KUSHNER M J (Mathematical Sciences Northwest, WA, USA) ,  ANDERSON H M (Univ. New Mexico, NM, USA) ,  HARGIS P J (Sandia National Lab., NM, USA)
資料名： Plasma Synthesis and Etching of Electronic Materials  (Plasma Synthesis and Etching of Electronic Materials)
ページ： 201-213  発行年： 1985年 
JST資料番号： K19860621  ISBN： 0-931837-03-0  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 現在工業に広く応用されている高周波放電技術の物理学について,...

シソーラス用語： プラズマシミュレーション ,...

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマプロセス ,  高周波放電 ,  励起 ,  ポジション ,  シミュレーション