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文献
J-GLOBAL ID:200902015520561390   整理番号:91A0052034

シリコン上の酸化シリコン薄膜のエッジによる偏光散乱 薄膜厚さ測定のための実験法

Polarized light scattering by silicon oxide thin film edge on silicon: an experimental approach for thin film thickness determination.
著者 (2件):
資料名:
巻:号: 11  ページ: 1237-1243  発行年: 1990年11月 
JST資料番号: C0354C  ISSN: 0957-0233  CODEN: MSTCEP  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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分類 (2件):
分類
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偏光測定と偏光計  ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器 

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