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文献
J-GLOBAL ID:200902015550507462   整理番号:89A0525684

けい素2pしきい値近傍におけるSiF4の励起とイオン化に続く緩和過程 II 分子イオンの解離

Relaxation processes following excitation and ionization of SiF4 in the vicinity of the silicon 2p threshold. II. Dissociation of the molecular ions.
著者 (5件):
資料名:
巻: 90  号: 12  ページ: 7078-7086  発行年: 1989年06月15日 
JST資料番号: C0275A  ISSN: 0021-9606  CODEN: JCPSA6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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分子と光子の相互作用 

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