文献
J-GLOBAL ID:200902015568648233
整理番号:90A0919098
RFマグネトロンスパッタリング法によるアモルファスSiC薄膜の内部応力
Internal stress of amorphous SiC films by RF magnetron sputtering.
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{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=90A0919098&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}