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文献
J-GLOBAL ID:200902015569414570 整理番号:92A0662546
特集 自然酸化膜の生成とその処理 自然酸化膜生成防止技術
Special issue : Formation of natural oxidation films and their processing.Technique for preventing the formation of natural oxidation films.
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著者 (1件):
富岡秀起
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名寄せID(JGPN) 200901100471544275 ですべてを検索
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(
日立
)
日立 について
名寄せID(JGON) 201551000097314540 ですべてを検索
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資料名:
月刊Semiconductor World (月刊セミコンダクターワールド)
月刊Semiconductor World について
JST資料番号 Y0509A ですべてを検索
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巻:
11
号:
11
ページ:
102-107
発行年:
1992年09月
JST資料番号:
Y0509A
ISSN:
0286-5025
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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Si自然酸化膜の生成防止に関し,半導体デバイス製造プロセス,...
シソーラス用語:
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自動酸化
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分類 (1件):
分類
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固体デバイス製造技術一般
(NC03030V)
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