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J-GLOBAL ID：200902015578316433   整理番号：88A0120521

パルスプラズマアブレーションの結晶化法により非加熱基材上に蒸着させたAl2O3層

Layers of Al2O3 deposited on nonheated substrates by way of crystallization of pulse plasma ablation.
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著者 (1件)：
ROMANOWSKI Z

ROMANOWSKI Z について

(Warsaw Univ., Warsaw, POL)

Warsaw Univ., Warsaw, POL について


資料名：
Ceramics in Clinical Applications  (Ceramics in Clinical Applications)

Ceramics in Clinical Applications について


ページ： 111-115  発行年： 1987年 
JST資料番号： K19870500  ISBN： 0-444-42777-5  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
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結晶化の促進を目的にアランダムセラミックを原料とし,標題アブ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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セラミック被覆

セラミック被覆 について

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分類 (1件)：
分類
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金属材料へのセラミック被覆 
(YC02050V)

金属材料へのセラミック被覆 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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結晶化

結晶化 について

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蒸着

蒸着 について

, 
Al2O3

Al2O3 について


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