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J-GLOBAL ID：200902015578460836   整理番号：88A0510066

機能材料連載講座 V 最新イオンビーム技術(材料開発の新プロセスとして) イオンビームスパッタリング法による薄膜技術

Ion beam technology as processing on new materials. (Part 5).

著者 (1件)： 野川修一 (日新電機)
資料名： 機能材料  (Function & Materials)
巻： 8  号： 6  ページ： 45-53  発行年： 1988年06月 
JST資料番号： Y0021A  ISSN： 0286-4835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオンビームスパッタリング法は従来からの一般のスパッタリング...

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： IBS法 ,...

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 機能材料 ,  イオンビーム ,  開発 ,  プロセス ,  イオンビームスパッタリング法 ,  薄膜技術