イオン注入でドープしたSi膜をパルス的に焼なましした時の非熱的過程の役割

文献

J-GLOBAL ID：200902015595195763 整理番号：85A0125654

О роли атермических процессов в импульсном отжиге ионно-легированных слоев Si.

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巻： 18 号： 5 ページ： 928-930 発行年： 1984年05月
JST資料番号： R0267A ISSN： 0015-3222 CODEN： ETPPA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：ロシア (RUS) 言語：ロシア語 (RU)

n型Si結晶,その上にn⁺層をエピタキ...

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半導体結晶の電気伝導

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