アルミナ空乏層の電鋳ニッケルへの応用

GROVER A K; PAPPACHAN A L; SINGH S

文献

J-GLOBAL ID：200902015601994517 整理番号：91A0385757

アルミナ空乏層の電鋳ニッケルへの応用

Application of alumina barrier layer on electroformed nickel.

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巻： 39 号： 3 ページ： 139-142 発行年： 1990年07月
JST資料番号： W0032A ISSN： 0013-466X CODEN： JESIA5 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：インド (IND) 言語：英語 (EN)

ニッケルチューブがスルファミン酸塩浴から電解法によって作られ...

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電気化学反応

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