低圧プラズマ内で電子によってヘリウムのn=3副準位内に生じる衝突過程  電子密度測定への応用

DUBREUIL B; PRIGENT P

文献

J-GLOBAL ID：200902015603327704 整理番号：86A0185295

低圧プラズマ内で電子によってヘリウムのn=3副準位内に生じる衝突過程電子密度測定への応用

Collisional processes induced in the n=3 helium sublevels by electrons in a low-pressure plasma. Application to the electron density measurement.

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巻： 18 号： 23 ページ： 4597-4611 発行年： 1985年12月14日
JST資料番号： B0913A ISSN： 0022-3700 CODEN： JPAMA4 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

電子衝突によって3S,3Pおよび4D状態に励起されたHeのク...

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プラズマ一般 , 電子との衝突・散乱

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低圧プラズマ内で電子によってヘリウムのn=3副準位内に生じる衝突過程 電子密度測定への応用

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