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J-GLOBAL ID：200902015619032135   整理番号：91A0950299

Band tailing and transport in a-Si Ge:H-alloys.

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著者 (4件)：
BAUER G H

BAUER G H について

(Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)

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NEBEL C E

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SCHUBERT M B

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SCHUMM G

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(Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)

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資料名：
Amorphous Silicon Technology - 1989  (Amorphous Silicon Technology - 1989)

Amorphous Silicon Technology - 1989 について


ページ： 485-496  発行年： 1989年 
JST資料番号： K19910614  ISBN： 1-55899-022-4  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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