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文献
J-GLOBAL ID:200902015661998830   整理番号:87A0315292

イオンスパッタリング II

Ion sputtering. II.
資料名:
巻: 16  号:ページ: 232-241  発行年: 1987年04月 
JST資料番号: E0473A  ISSN: 0379-4148  CODEN: WULIA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
抄録/ポイント:
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まず合金と化合物のスパッタリングについて合金の選択スパッタリングの例や酸化物は特に選択性のものがないこと,表面に偏析する現象が見られることを記述した。スパッタリングで生じる各種粒子については中性原子,二次イオン,励起した原子や二次電子の放出,エネルギ分布から角分布まで等を記載した。実験測定の方法はプラズマ放電法よりも入射種の量,ターゲットのスパッタリング前後の重量または厚みの測定等がよいことを挙げた。続いて計算機によるシミュレーションについては動力学模型法と二体衝突近似プログラム(TRIM)法を挙げた。最後に五項目の理由を挙げスパッタリングは運動量移動メカニズムが正しいことを立証した
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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