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文献J-GLOBAL ID:200902015666815458整理番号:89A0252631

Photoreflectance surface Fermi level measurements of GaAs subjected to various chemical treatments.

種々の化学処理後のGaAsの表面Fermi準位の光反射率による測定

著者:GASKILL D K(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)、BOTTKA N(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)、SILLMON R S(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
資料名:J Vac Sci Technol B 巻:6 号:5 ページ:1497-1501
発行年:1988年09月
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