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J-GLOBAL ID：200902015674922751   整理番号：91A0023256

NドープAl膜の接触抵抗と表面組成

Contact resistance and surface composition of N-doped Al films.

著者 (5件)： SACEDON J L (Inst. Ciencia de Materiales, Madrid, ESP) ,  AVILA J (Inst. Ciencia de Materiales, Madrid, ESP) ,  FERNANDEZ M (Inst. Ciencia de Materiales, Madrid, ESP) ,  FORT P (Hydromecanique et Frottement, Andrezieux-Bouttheon, FRA) ,  TERRAT J P (Hydromecanique et Frottement, Andrezieux-Bouttheon, FRA)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 41  号： 4/6  ページ： 1215-1217  発行年： 1990年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固有酸化膜の保護特性を変えることなく,純Al膜の接触抵抗を減...

シソーラス用語： アルミニウム ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  界面の電気的性質一般【’81~’92】  (BM03071W)

タイトルに関連する用語 (4件)： ドープ ,  Al膜 ,  接触抵抗 ,  表面組成