文献
J-GLOBAL ID：200902015712877366
整理番号：83A0013940
イオン電流スペクトルに及ぼすガス混合効果とインプランテーション源のガス組成の最適化への応用
Gas mixing effect on ion current spectrum and its application to optimize implantation source gas composition.
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著者 (2件)：
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資料名：
巻：
21
号：
4
ページ：
633-635
発行年：
1982年04月
JST資料番号：
G0520B
ISSN：
0021-4922
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
日本 (JPN)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Penning放電イオン源で,HeとArとO
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シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件)：
分類
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電子源,イオン源
タイトルに関連する用語 (7件)：
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