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文献J-GLOBAL ID:200902015712877366整理番号:83A0013940

Gas mixing effect on ion current spectrum and its application to optimize implantation source gas composition.

イオン電流スペクトルに及ぼすガス混合効果とインプランテーション源のガス組成の最適化への応用

著者:IRITA Y(Electrical Communication Lab., Tokyo)、KAJIYAMA K(Electrical Communication Lab., Tokyo)
資料名:Jpn J Appl Phys Part 1 巻:21 号:4 ページ:633-635
発行年:1982年04月
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