シリコン窒化膜の酸化と酸化雰囲気

文献

J-GLOBAL ID：200902015714166408 整理番号：92A0432029

The oxidation of Si₃N₄ films in O₂ and H₂O ambients.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=92A0432029&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=92A0432029&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}

著者 (5件)： , , , ,
資料名：
巻： 39th 号： Pt 2 ページ： 651 発行年： 1992年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

, ,

前のページに戻る