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J-GLOBAL ID：200902015731884217   整理番号：86A0167921

けい素-ふっ素の腐食反応の軟X線光電子放出による研究

Soft X-ray photoemission study of the silicon-fluorine etching reaction.

著者 (3件)： MCFEELY F R (IBM, New York) ,  MORAR J F (IBM, New York) ,  HIMPSEL F J (IBM, New York)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 165  号： 1  ページ： 277-287  発行年： 1986年01月 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 定常的な腐食状態にあるSi(111)表面の高分解能光電子スペ...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 腐食基礎理論,腐食試験  (WB03020Q) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (6件)： けい素 ,  ふっ素 ,  腐食 ,  軟X線 ,  光電子放出 ,  研究