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J-GLOBAL ID：200902019091891918   整理番号：84A0288573

重合体層中で芳香族アジドに紫外線を照射した時に生成するラジカル中心の生成率に及ぼすニトレンの移動度の影響

О влиянии подвижности нитренов на выход радикальных центров, образующихся при облучении ароматических азидов в полимерных слоях.

著者 (4件)： ОЛЕЙНИК А В ,  ЗЕЛЕНЦОВА Н В ,  ТРЕУШНИКОВ В М ,  СЕМЧИКОВ Ю Д
資料名： Vysokomolekulyarnye Soedineniya. Seriya A i Seriya B  (Vysokomolekulyarnye Soedineniya. Seriya A i Seriya B)
巻： 26  号： 4  ページ： 769-774  発行年： 1984年04月 
JST資料番号： R0216C  ISSN： 0507-5475  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ロシア (RUS)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： 天然ゴム及びポリスチレン層中で芳香族モノアジド〔(1-フェニ...

シソーラス用語： 天然ゴム ,...
準シソーラス用語： 結合多環化合物 ,...

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分類 (3件)： 高分子担体・触媒反応  (CG03030W) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  芳香族単環ヒドロキシルアミン及びヒドラジンその他の芳香族単環多窒素直結化合物  (CF05060O)

タイトルに関連する用語 (7件)： 重合 ,  芳香族 ,  アジド ,  紫外線 ,  ラジカル ,  ニトレン ,  移動度