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文献J-GLOBAL ID:200902023255136935整理番号:84A0202478

Thin films of refractory compound prepared by reactive ion plating process.

反応性イオンプレーティング処理で作った耐熱化合物薄膜

著者:MATSUMURA Y(Tokai Univ., Hiratsuka)、YOSHIOKA T(Tokai Univ., Hiratsuka)、HUANG Y C(Tokai Univ., Hiratsuka)
資料名:Proc Int Ion Eng Congr 1983 Vol 2 ページ:1283-1288
発行年:1983年
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