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J-GLOBAL ID：200902107820938900   整理番号：99A0939512

簡易型低周波数スパッタリング装置によるエピタキシャルBaTiO₃薄膜の製作と特性評価

Preparation and Characterization of Epitaxial BaTiO₃ Thin Films by Low Frequency Sputtering.

著者 (6件)： 竹村崇 (東海大) ,  加納大幹 (東海大) ,  竹淵政孝 (東芝) ,  木村英樹 (東海大 工) ,  飯田昌盛 (九州東海大 工) ,  黒須楯生 (東海大 工)
資料名： 東海大学紀要 工学部  (Proceedings of the School of Engineering of Tokai University)
巻： 39  号： 1  ページ： 67-71  発行年： 1999年10月30日 
JST資料番号： G0655A  ISSN： 0563-6787  CODEN： TDKIB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 簡単な設計の低周波数低コストスパッタリング装置により,Nbド...

シソーラス用語： 強誘電体 ,...

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分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： 簡易 ,  低周波数 ,  スパッタリング装置 ,  エピタキシャル ,  BaTiO3 ,  薄膜 ,  製作 ,  特性評価