粗い多結晶シリコン表面間の付着仕事に対する水素終端効果

HOUSTON M R; HOWE R T; MABOUDIAN R

文献

J-GLOBAL ID：200902131022217738 整理番号：97A0496982

粗い多結晶シリコン表面間の付着仕事に対する水素終端効果

Effect of hydrogen termination on the work of adhesion between rough polycrystalline silicon surfaces.

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資料名：
巻： 81 号： 8, Pt.1 ページ： 3474-3483 発行年： 1997年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

微細加工したテスト構造を用いて多結晶Si間の付着仕事を測定し...

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固-固界面 , 半導体の表面構造

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