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文献J-GLOBAL ID:200902131041537220整理番号:01A1048390

Correlation between the dielectric constant and porosity of nanoporous silica thin films deposited by the gas evaporation technique.

ガス蒸着法で堆積させたナノ多孔質石英薄膜の誘電率と多孔性との相関

著者:SI J J(Univ. Electro‐Communications, Tokyo, JPN)、ONO H(Univ. Electro‐Communications, Tokyo, JPN)、UCHIDA K(Univ. Electro‐Communications, Tokyo, JPN)・・・
資料名:Appl Phys Lett 巻:79 号:19 ページ:3140-3142
発行年:2001年11月05日
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