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J-GLOBAL ID：200902131042779600   整理番号：98A0506416

ウェーハ表面における金属不純物のXPSによる評価

XPS analysis of metalic impurity on Si surface.

著者 (3件)： 西川清子 (富士通) ,  中村誠 (富士通) ,  阿部直道 (富士通)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 45th  号： 2  ページ： 781  発行年： 1998年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： ウェーハ表面 ,  金属不純物 ,  XPS ,  評価