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J-GLOBAL ID：200902146207607670   整理番号：93A0282068

高エネルギーイオン注入による重金属の近接ゲッタリング

Proximity Gettering of Heavy Metals by High-Energy Ion Implantation.

著者 (8件)： KUROI T (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo) ,  KAWASAKI Y (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo) ,  MOMORI S (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo) ,  FUKUMOTO K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo) ,  INUISHI M (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo) ,  TSUKAMOTO K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo) ,  SHINYASHIKI H (Mitsubishi Materials Corp., Saitama) ,  SHINGYOJI T (Mitsubishi Materials Corp., Saitama)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 32  号： 1B  ページ： 303-307  発行年： 1993年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 試料を銅と鉄で故意に汚染し,高エネルギー高線量イオン注入を利...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 半導体の放射線による構造と物性の変化  (BK16123E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高エネルギーイオン ,  注入 ,  重金属 ,  ゲッタリング