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J-GLOBAL ID：200902165042314308   整理番号：96A0636366

イオン注入と熱処理により二酸化けい素中に形成したシリコンナノ結晶からの可視-光ルミネセンス

Visible photoluminescence from silicon nanocrystals formed in silicon dioxide by ion implantation and thermal processing.

著者 (6件)： SHIMIZU-IWAYAMA T (Aichi Univ. Education, Aichi, JPN) ,  TERAO Y (Aichi Univ. Education, Aichi, JPN) ,  KAMIYA A (Aichi Univ. Education, Aichi, JPN) ,  TAKEDA M (Aichi Univ. Education, Aichi, JPN) ,  NAKAO S (National Industrial Res. Inst. Nagoya, Nagoya, JPN) ,  SAITOH K (National Industrial Res. Inst. Nagoya, Nagoya, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 276  号： 1/2  ページ： 104-107  発行年： 1996年04月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質SiO₂中に埋め込まれたSiナノ...

シソーラス用語： 二酸化ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン注入 ,  熱処理 ,  二酸化けい素 ,  シリコンナノ結晶 ,  光ルミネセンス