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文献J-GLOBAL ID:200902165051779011整理番号:96A0335668

An XPS study of the effects of semiconductor processing treatments used to make InP optoelectronic devices.

InPオプトエレクトロニクス素子作製における半導体プロセス処理効果のX線光電子分光研究

著者:VAN MEIRHAEGHE R L(Lab. Kristallografie en Studie van de Vaste Stof, Gent, BEL)、GOUBERT L(Lab. Kristallografie en Studie van de Vaste Stof, Gent, BEL)、FIERMANS L(Lab. Kristallografie en Studie van de Vaste Stof, Gent, BEL)・・・
資料名:Inst Phys Conf Ser 号:146 ページ:641-644
発行年:1995年
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