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文献J-GLOBAL ID:200902165065605652整理番号:96A0185964

Structure-Property Relationship of Acetal- and Ketal-Blocked Polyvinyl Phenols as Polymeric Binder in Two-Component Positive Deep-UV Photoresists.

二成分ポジ型DUVフォトレジストにおける高分子バインダとしてのアセタール及びケタールでブロックしたポリビニルフェノールの構造と性質の相関

著者:MERTESDORF C(OCG Microelectronic Materials AG, Basel, CHE)、MUENZEL N(OCG Microelectronic Materials AG, Basel, CHE)、FALCIGNO P(OCG Microelectronic Materials AG, Basel, CHE)・・・
資料名:ACS Symp Ser (Am Chem Soc) 号:614 ページ:35-55
発行年:1995年
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