準直流プラズマ浸漬イオン注入

ZENG X; FU R K Y; KWOK D T K; CHU P K

文献

J-GLOBAL ID：200902165093673760 整理番号：01A1048358

準直流プラズマ浸漬イオン注入

Quasi-direct current plasma immersion ion implantation.

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巻： 79 号： 19 ページ： 3044-3046 発行年： 2001年11月05日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

長パルスモードで準直流のプラズマ浸漬イオン注入(PIII)を...

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放射線による構造と物性の変化一般

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