商用利用レジストの0.25μm構造のX線照射のためのプロセス制御 適応制御の可能性

TAYLOR J W; GAMSKY C; RHYNER S; HOWES G; DENTINGER P; NELSON C; YANG C; REILLY M

文献

J-GLOBAL ID：200902165113162768 整理番号：96A0169291

商用利用レジストの0.25μm構造のX線照射のためのプロセス制御適応制御の可能性

Processing control for 0.25μm x-ray exposures of commercially available resists: The potential for adaptive control.

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資料名：
巻： 13 号： 6 ページ： 3078-3081 発行年： 1995年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

0.25μmにおいて化学増幅レジストを用いるために必要な厳し...

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X線技術 , 固体デバイス製造技術一般

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