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J-GLOBAL ID：200902165153289531   整理番号：95A0605592

原子層蒸着により成長させた酸化タンタル薄膜の特性

Properties of tantalum oxide thin films grown by atomic layer deposition.

著者 (6件)： KUKLI K (Univ. Tartu, Tartu, SUN) ,  AARIK J (Univ. Tartu, Tartu, SUN) ,  AIDLA A (Univ. Tartu, Tartu, SUN) ,  KOHAN O (Univ. Tartu, Tartu, SUN) ,  UUSTARE T (Univ. Tartu, Tartu, SUN) ,  SAMMELSELG V (Inst. Physics, Estonian Acad. Sci., Tartu, SUN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 260  号： 2  ページ： 135-142  発行年： 1995年05月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TaCl₅とH₂...

シソーラス用語： 酸化タンタル ,...
準シソーラス用語： 禁止帯

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  無機化合物の可視・紫外スペクトル  (BM08084P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子層蒸着 ,  成長 ,  酸化タンタル ,  薄膜