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文献J-GLOBAL ID:200902165161330818整理番号:00A0535726

Optimization of plasma density and radial uniformity of a point-cusp magnetic field applied capacitive plasma.

ポイントカスプ磁場を印加した容量プラズマのプラズマ密度と動径方向均一性の最適化

著者:WICKRAMANAYAKA S(Anelva Corp., Tokyo, JPN)、NAKAGAWA Y(Anelva Corp., Tokyo, JPN)、SAGO Y(Anelva Corp., Tokyo, JPN)・・・
資料名:J Vac Sci Technol A 巻:18 号:3 ページ:823-829
発行年:2000年05月
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