直接電子ビーム照射  光学高分子膜を用いる二次非線形性の消去とチャネル導波路の作製の新しい方法

NAKAYAMA H; SUGIHARA O; OKAMOTO N

文献

J-GLOBAL ID：200902165189787376 整理番号：97A0979044

直接電子ビーム照射光学高分子膜を用いる二次非線形性の消去とチャネル導波路の作製の新しい方法

Direct electron-beam irradiation: a new technique for the erasure of second-order nonlinearity and the fabrication of channel waveguides by use of optical polymeric films.

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巻： 22 号： 20 ページ： 1541-1543 発行年： 1997年10月15日
JST資料番号： H0690A ISSN： 0146-9592 CODEN： OPLEDP 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

直接電子ビーム照射による非線形光学高分子導波路デバイスの新規...

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光導波路,光ファイバ,繊維光学 , 非線形光学 , 電子・陽電子との相互作用一般

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直接電子ビーム照射 光学高分子膜を用いる二次非線形性の消去とチャネル導波路の作製の新しい方法

直接電子ビーム照射光学高分子膜を用いる二次非線形性の消去とチャネル導波路の作製の新しい方法