多層オプトエレクトロニクス素子のシンクロトロンx線微小回折による診断

CAI Z-H; RODRIGUES W; ILINSKI P; LEGNINI D; LAI B; YUN W; ISAACS E D; LUTTERODT K E; KETELSEN L J P

文献

J-GLOBAL ID：200902165214317193 整理番号：99A0706082

多層オプトエレクトロニクス素子のシンクロトロンx線微小回折による診断

Synchrotron x-ray microdiffraction diagnostics of multilayer optoelectronic devices.

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資料名：
巻： 75 号： 1 ページ： 100-102 発行年： 1999年07月05日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

選択領域成長技術で作製した微小オプトエレクトロニクス素子にお...

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半導体薄膜 , 光電デバイス一般

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