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J-GLOBAL ID：200902172788776036   整理番号：97A0333747

1-トリフルオロシリル-2-トリメチルシリルエタンの気相におけるSi:2p内殻励起によって起こる原子サイトに特有な解離の研究

Investigation of site-specific fragmentation following Si:2p core-level photoexcitation of F3Si(CH2)2Si(CH3)3 in the vapor phase.

著者 (5件)： 藤淵図南 (愛媛大 理) ,  長岡伸一 (愛媛大 理) ,  大下浄治 (広島大 工) ,  石川満夫 (倉敷芸術科大) ,  小谷野猪之助 (姫路工大 理)
資料名： 分子構造総合討論会講演要旨集
巻： 1996  ページ： 746  発行年： 1996年10月 
JST資料番号： L0848A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シンクロトロン放射光を用いて,気相におけるF_3<...

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タイトルに関連する用語 (6件)： 気相 ,  Si ,  内殻励起 ,  原子 ,  解離 ,  研究