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J-GLOBAL ID：200902212376827932   整理番号：04A0046374

電子顕微鏡法による材料開発のための微細構造研究最前線(3) Si(001)基板にエピ成長させたβ-FeSi₂スパッタ膜

著者 (3件)： 板倉賢 (九大 大学院総合理工学研究院) ,  友清芳二 (九大 大学院総合理工学研究院) ,  桑野範之 (九大 産学連携セ)
資料名： まてりあ  (Materia Japan)
巻： 42  号： 12  ページ： 888  発行年： 2003年12月20日 
JST資料番号： F0163A  ISSN： 1340-2625  CODEN： MTERE2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 著者らが考案した電子回折の高次反射を用いた結晶方位解析法を用...

シソーラス用語： *エピタクシー ,...
準シソーラス用語： HRTEM ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (3件)：

• 末益崇. まてりあ. 2002, 41, 342
• YAMAGUCHI, K. Phys. Rev. Lett. 2001, 86, 6006
• KUWANO, N. Jpn. J. Appl. Phys. 2003, 42, 86

タイトルに関連する用語 (7件)： 電子顕微鏡法 ,  開発 ,  微細構造 ,  研究 ,  Si ,  成長 ,  スパッタ膜