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文献J-GLOBAL ID:200902212390724801整理番号:06A0557439

In-situ Monitoring of Cavity Filling in Nanoimprints by Capacitance

静電容量によるナノインプリントの空洞充填のその場監視

著者:HOCHENG Hong(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)、NIEN Chin Chung(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)、NIEN Chin Chung(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
資料名:Jpn J Appl Phys Part 1 巻:45 号:6B ページ:5590-5596
発行年:2006年06月30日
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