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文献
J-GLOBAL ID:200902212415638280   整理番号:04A0794089

パルスレーザ堆積法によるBi(FexAl1-x)O3薄膜の合成とその構造キャラクタリゼーション

Synthesis of Bi(FexAl1-x)O3 Thin Films by Pulsed Laser Deposition and Its Structural Characterization
著者 (4件):
資料名:
巻: 43  号: 9B  ページ: 6609-6612  発行年: 2004年09月30日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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新しい無鉛圧電材料としてペロブスカイトBiAlO<sub>3...
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分類 (2件):
分類
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圧電気,焦電気,エレクトレット  ,  薄膜成長技術・装置 
引用文献 (11件):
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