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J-GLOBAL ID：200902212416524903   整理番号：06A0693677

反応性のイオン支援によるマグネトロンスパッタリング蒸着による窒化タンタルに及ぼす加工変数の効果

Effects of Processing Variables on Tantalum Nitride by Reactive-Ion-Assisted Magnetron Sputtering Deposition

著者 (3件)： WEI Chao-Tsang (National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  WEI Chao-Tsang (Industrial Technol. Res. Inst., Chutung, TWN) ,  SHIEH Han-Ping D. (National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45  号： 8A  ページ： 6405-6410  発行年： 2006年08月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二成分化合物窒化タンタル(TaN)と三成分化合物窒化タングス...

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： 窒化タンタル

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (24件)：

• C. Angelkort, A. Berendes, H. Lewalter, W. Bock and B. O. Kolbesen: Thin Solid Films 437(2003)108.
• C. Mitterer, F. Holler, D. Reitberger, E. Badisch, M. Stoiber, C. Lugmair, R. Nobauer, Th. Muller and R. Kullmer: Surf. Coat. Technol.163-164(2003)716.
• W. Ensinger, K. Volza and M. Kiuchi: Surf. Coat. Technol.128-129(2000)81.
• E. Harry, M. Ignat, Y. Pauleau, A. Rouzaud and P. Juliet: Surf. Coat. Technol.125(2000)185.
• O. Durand-Drouhin, A. E. Santana, A. Karimi, V. H. Derflinger and A. Schutze: Surf. Coat. Technol.163-164(2003)260.

タイトルに関連する用語 (7件)： 反応性 ,  イオン ,  支援 ,  マグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  窒化タンタル ,  変数