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文献
J-GLOBAL ID:200902212421341515   整理番号:08A0446226

ランプ急速熱処理装置における昇温速度の高精度制御方法の検討

Precise Control Method of Temperature Rising Speed during Rapid Thermal Processing with Lamp Heaters
著者 (2件):
資料名:
巻: 74  号: 740  ページ: 767-773  発行年: 2008年04月25日 
JST資料番号: F0036B  ISSN: 0387-5016  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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半導体熱処理プロセスではハロゲンランプ加熱による短時間熱処理が行われており,昇温速度を与えられた条件になるように制御することが重要である。ランプ熱処理装置における100°C/sの急速昇温について,各種の制御方法と昇温速度精度との関係を数値解析と実験により検討し,伝熱モデルに昇温速度で補正する方法が,700°C付近における昇温速度の誤差を0.1°C/s以下にでき優れていることを示した。また,制御誤差に及ぼす,モニター制御時間遅れとモニター温度計測誤差の影響を明らかにした。計測誤差がある場合において昇温速度の誤差に及ぼすモニター周期の影響を検討し,モニター周期が0.2sにて昇温速度の誤差が最小になることを示した。(著者抄録)
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分類 (1件):
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加熱 
引用文献 (10件):
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