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文献J-GLOBAL ID:200902212453237922整理番号:02A0935785

Stress anisotropy in circular planar magnetron sputter deposited molybdenum films and its annealing effect.

円形平板マグネトロンスパッタ蒸着モリブデン薄膜における応力異方性とそのアニーリング効果

著者:WU Y G(Tongji Univ., Shanghai, CHN)、CAO E H(Tongji Univ., Shanghai, CHN)、WANG Z S(Tongji Univ., Shanghai, CHN)・・・
資料名:Appl Phys A 巻:76 号:2 ページ:147-152
発行年:2003年02月
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