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J-GLOBAL ID：200902212453237922   整理番号：02A0935785

円形平板マグネトロンスパッタ蒸着モリブデン薄膜における応力異方性とそのアニーリング効果

Stress anisotropy in circular planar magnetron sputter deposited molybdenum films and its annealing effect.

著者 (6件)： WU Y G (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  CAO E H (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  WANG Z S (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  WEI J M (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  TANG W X (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  CHEN L Y (Tongji Univ., Shanghai, CHN)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 76  号： 2  ページ： 147-152  発行年： 2003年02月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記Mo薄膜中の応力異方性をArガス圧(0.8~1.5Pa)...

シソーラス用語： *金属薄膜 ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性

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分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (9件)： 円形 ,  平板 ,  マグネトロン ,  スパッタ蒸着 ,  モリブデン ,  薄膜 ,  応力 ,  異方性 ,  アニーリング効果