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文献J-GLOBAL ID:200902212466062749整理番号:08A0378396

Atomic layer deposition of TiO2 films on particles in a fluidized bed reactor

流動層反応器中の粒子へのTiO2フィルムの原子層堆積

著者:KING David M.(Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA)、LIANG Xinhua(Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA)、ZHOU Yun(Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA)・・・
資料名:Powder Technol 巻:183 号:3 ページ:356-363
発行年:2008年04月21日
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