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J-GLOBAL ID：200902212466062749   整理番号：08A0378396

流動層反応器中の粒子へのTiO₂フィルムの原子層堆積

Atomic layer deposition of TiO₂ films on particles in a fluidized bed reactor

著者 (7件)： KING David M. (Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA) ,  LIANG Xinhua (Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA) ,  ZHOU Yun (Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA) ,  CARNEY Casey S. (Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA) ,  HAKIM Luis F. (Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA) ,  LI Peng (Univ. of New Mexico, Dep. of Earth and Planetary Sciences, Albuquerque, NM 87131, USA) ,  WEIMER Alan W. (Univ. of Colorado, Dep. of Chemical and Biological Engineering, Boulder, CO 80309, USA)
資料名： Powder Technology  (Powder Technology)
巻： 183  号： 3  ページ： 356-363  発行年： 2008年04月21日 
JST資料番号： B0730A  ISSN： 0032-5910  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 流動層反応器中で粒子基材へ制御された厚さのTiO₂薄膜を原子層堆積(ALD)した。光学物性を向上するために,550nmのSiO₂の球および65nmのZnOの超微粒子上に薄膜を堆積した。超微粒子を,磁力-連結された撹はん機を援用して,流動化した。有機金属化合物チタンテトライソプロポシドを先駆体として,種々の基材温度でTiO₂を堆積するための酸化剤としてH₂OおよびH₂O₂を用いた。これらの,TiO₂薄膜をHRTEM,ICP-AES,XPS,UV吸収で確認した。粒径が所与の密度の薄膜の堆積によって増大された後に,比表面積は適宜に変えられ,1次粒子は塗工プロセスによって,凝集されなかったことが分った。インサイト質量分析によって,各ALD反応サイクルの反応をモニターした。粉体のバルク量は過度に先駆体を浪費しないで,TiO₂薄膜によって良好に機能化された。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化チタン ,  *薄膜 ,  有機金属化合物 ,  高分解能電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  誘導結合プラズマ ,  X線光電子分光法 ,  *堆積 ,  キャラクタリゼーション ,  質量分析 ,  流動層反応器 ,  *超微粒子 ,  表面処理

分類 (1件)： 晶析  (XD02070T)

物質索引 (1件)： イソプロポキシド

タイトルに関連する用語 (3件)： 流動層反応器 ,  TiO2フィルム ,  原子層堆積