文献

J-GLOBAL ID：200902212469851221   整理番号：09A0762542

構造明確なモノおよびビス末端官能化ポリ(N-イソプロピルアクリルアミド)へのルートとしての逐次チオール-エン/チオール-エンおよびチオール/チオールイン反応

Sequential Thiol-Ene/Thiol-Ene and Thiol-Ene/Thiol-Yne Reactions as a Route to Well-Defined Mono and Bis End-Functionalized Poly(N-isopropylacrylamide)

著者 (4件)： YU Bing (Univ. Southern Mississippi, Mississippi) ,  CHAN Justin W. (Univ. Southern Mississippi, Mississippi) ,  HOYLE Charles E. (Univ. Southern Mississippi, Mississippi) ,  LOWE Andrew B. (Univ. Southern Mississippi, Mississippi)
資料名： Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry  (Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry)
巻： 47  号： 14  ページ： 3544-3557  発行年： 2009年07月15日 
JST資料番号： C0337C  ISSN： 0887-624X  CODEN： JPLCAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ジチオ安息香酸1-シアノ-1-メチルエチルを開始剤,AIBNを触媒としたN-イソプロピルアクリルアミド{NIPAm}のRAFT重合でPNIPAm-SC(S)Phを得た。チオカルボニル基をOctNH₂/PPhMe₂で開裂,メタクリル酸アリル付加してチオール-エン反応物PNIPAm-SCH₂CHMeC(O)OCH₂CH=CH₂に変え,RSHと光開始剤存在下に反応させ末端アリル基をCH₂CH₂CH₂SRに変換した(RSH=6-メルカプトヘキサン-1-オール,ヘキサン-1-チオール,3-メルカプトプロピル-POSS)。またPNIPAm-SC(S)Phをアミン/ホスフィン/アクリル酸プロパルギルと反応させSCH₂CH₂C(O)OCH₂C≡CH末端基を持つチオール-イン反応物とし,RSH処理してプロパルギル基をCH₂CH(SR)CH₂SRに変えた。NIPAmホモポリマーのLCST(26~35°C)に及ぼす末端基修飾効果を評価した。

シソーラス用語： 化学合成 ,  分子構造 ,  リビングラジカル重合 ,  *ポリイソプロピルアクリルアミド ,  *末端基 ,  チオール ,  水溶性高分子 ,  臨界溶解温度 ,  *スルフィド
準シソーラス用語： LCST ,  RAFT重合

分類 (2件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  アクリル樹脂  (YH07110K)

物質索引 (1件)： N-イソプロピルアクリルアミド

タイトルに関連する用語 (5件)： ビス ,  官能化 ,  N-イソプロピルアクリルアミド ,  逐次 ,  チオール