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J-GLOBAL ID:200902212487528144   整理番号:09A0519507

積層MEMSのためのパルスレーザー支援デブリフリー低ストレスダイシング技術

Debris-Free Low-Stress Dicing Assisted by Pulsed Laser for Multi-Layered MEMS
著者 (9件):
資料名:
巻: 37  号:ページ: 384-388  発行年: 2009年05月15日 
JST資料番号: X0335A  ISSN: 0387-0200  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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MEMSウエハをチップ化する方法として,レーザアブレーションを用いた切断が検討されている。厚みのある飼料や積層構造に対応するため,ブリフリー低ストレスダイシング技術について検討した。積層MEMS用高速レーザ加工装置と曲げ応力測定装置,各種ウエハのレーザダイシング結果と考察を述べた。レーザダイシング結果では,ウエハの曲げ応力測定,低ストレス割断に向けての各種ウエハ加工条件の検討を述べた。波長1.06μm,パルス幅10nsのNd:YVO3レーザを利用して,ガラス・Siウエハ共に内部加工を施すことで,デブリフリーでレーザダイシング技術を開発した。低ストレス割断を望むデバイスにおいて,テンパックスガラスに対してNd:YVO3レーザの第二高調波,Siに対してパルス幅100nsのパルスレーザの使用が効果的である。
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分類 (2件):
分類
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レーザの応用  ,  光集積回路,集積光学 
引用文献 (4件):
  • BARSCH, N. Appl. Phys. A. 2003, 77, 237
  • KOZUKI, Y. Proc. LAMP 2006, Kyoto, May 16-19. 2006
  • FUKUMITSU, K. Proc. LAMP 2006, Kyoto, May 16-19. 2006
  • MONODANE, T. Proc. LAMP 2006, Kyoto, May 16-19. 2006

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