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文献J-GLOBAL ID:200902212494232455整理番号:06A0828319

Diagnostics of CF2 Radical and Molecules in Non-equilibrium Atmospheric Pressure-Pulsed Plasma for SiO2 Etching

SiO2 エッチングのための非平衡大気圧パルスプラズマにおけるCF2ラジカルと分子の診断

著者:IWASAKI M.(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)、ITO M.(Wakayama Univ., Wakayama, JPN)、UEHARA T.(Sekisui Chemical Co., Ltd., Tsukuba, JPN)・・・
資料名:Proc Int Symp Dry Process 巻:5th ページ:85-86
発行年:2005年
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