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文献
J-GLOBAL ID:200902212494232455   整理番号:06A0828319

SiO2 エッチングのための非平衡大気圧パルスプラズマにおけるCF2ラジカルと分子の診断

Diagnostics of CF2 Radical and Molecules in Non-equilibrium Atmospheric Pressure-Pulsed Plasma for SiO2 Etching
著者 (4件):
資料名:
巻: 5th  ページ: 85-86  発行年: 2005年 
JST資料番号: Y0378B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般  ,  プラズマ装置 

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