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J-GLOBAL ID：200902212501013136   整理番号：04A0083905

水素化炭素膜のナノ硬度及びYoung率に対する膜部分の窒素含有量と膜厚の影響

Effect of nitrogen content at coating film and film thickness on nanohardness and Young’s modulus of hydrogenated carbon films

著者 (4件)： LIN J F (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  WEI P J (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  PAN J C (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  AI C-F (Inst. Nuclear Energy Res., Lung Tan, TWN)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 13  号： 1  ページ： 42-53  発行年： 2004年01月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質炭素膜の被覆層としての機械的機能性に着目し,窒素含有量...

シソーラス用語： *炭素 ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： アセチレン

タイトルに関連する用語 (6件)： 水素化 ,  炭素膜 ,  ナノ硬度 ,  Young率 ,  窒素含有量 ,  膜厚